EPM準分子激光微标記系統

系統特點

• EPM微标記系統是基于193nm準分子激光器(qì)的高(gāo)性能系統
• 主要由193nm深紫外準分子激光光源、光學傳輸系統、精密定位系統組成
• 具有(yǒu)作(zuò)用激光光源波長短(duǎn)、脈寬短(duǎn)、峰值功率高(gāo)、能量密度大(dà)等特點
• 特别适合于有(yǒu)機物、玻璃、陶瓷等材料表面的高(gāo)精度微标記應用
• 桌面放置，可(kě)選擇193nm/248nm波長
• 可(kě)軟件定制(zhì)，進行(xíng)微溝道(dào)微孔等制(zhì)作(zuò)

技(jì)術(shù)參數(shù)

型号	EPM
激光波長	193nm
典型脈寬	~10ns
聚焦光斑	最小(xiǎo)30um
能量密度	>5J/cm2
作(zuò)用範圍	100mm*100mm
位置精度	5um

規格