準分子激光退火(huǒ)系統

系統概述準分子激光退火(huǒ)系統采用準分子激光作(zuò)為(wèi)光源，經過勻光、整形後獲得(de)極均勻的高(gāo)能量密度線型激光束，可(kě)實現大(dà)面積樣品均勻掃描。準分子激光退火(huǒ)系統輸出波長短(duǎn)，光子能量大(dà)，樣品吸收深度小(xiǎo)，主要用于薄膜材料的退火(huǒ)或改性研究，如低(dī)溫多(duō)晶矽薄膜退火(huǒ)、光電(diàn)功能薄膜材料開(kāi)發等。系統特點線掃描光束，可(kě)實現大(dà)面積樣品均勻處理(lǐ)采用多(duō)級透鏡整列勻光技(jì)術(shù)，光束均勻性好激光波長可(kě)選擇308nm、248nm，351nm、193nm可(kě)定制(zhì)線光束尺...

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