脈沖激光沉積系統

脈沖激光沉積（Pulsedlaserdeposition,PLD），就是将激光聚焦于靶材上(shàng)一個(gè)較小(xiǎo)的面積，利用激光的高(gāo)能量密度将部分靶材料蒸發甚至電(diàn)離，使其能夠脫離靶材而向基底運動，進而在基底上(shàng)沉積，從而形成薄膜的一種方式。在衆多(duō)的薄膜制(zhì)備方法中，脈沖激光沉積技(jì)術(shù)的應用較為(wèi)廣泛，可(kě)用來(lái)制(zhì)備金屬、半導體(tǐ)、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、矽化物、硫化物及氟化物等各種物質薄膜，甚至還(hái)用來(lái)制(zhì)備一些(xiē)難以合成的材料膜，如金剛石、立方...

脈沖激光沉積（Pulsedlaserdeposition,PLD），...