EPM準分子激光微标記系統

系統特點EPM微标記系統是基于193nm準分子激光器(qì)的高(gāo)性能系統主要由193nm深紫外準分子激光光源、光學傳輸系統、精密定位系統組成具有(yǒu)作(zuò)用激光光源波長短(duǎn)、脈寬短(duǎn)、峰值功率高(gāo)、能量密度大(dà)等特點特别适合于有(yǒu)機物、玻璃、陶瓷等材料表面的高(gāo)精度微标記應用桌面放置，可(kě)選擇193nm/248nm波長可(kě)軟件定制(zhì)，進行(xíng)微溝道(dào)微孔等制(zhì)作(zuò)技(jì)術(shù)參數(shù)型号EPM激光波長193nm典型脈寬~10ns聚焦光斑最小(xiǎo)30um能量密度>5J/cm2作(zuò)用範圍100mm*100mm位置精...

系統特點EPM微标記系統是基于193nm準分子激光器(qì)...