解決方案

首頁解決方案準分子激光退火(huǒ)系統解決方案

準分子激光退火(huǒ)系統

系統概述

準分子激光退火(huǒ)系統采用準分子激光作(zuò)為(wèi)光源,經過勻光、整形後獲得(de)極均勻的高(gāo)能量密度線型激光束,可(kě)實現大(dà)面積樣品均勻掃描。準分子激光退火(huǒ)系統輸出波長短(duǎn),光子能量大(dà),樣品吸收深度小(xiǎo),主要用于薄膜材料的退火(huǒ)或改性研究,如低(dī)溫多(duō)晶矽薄膜退火(huǒ)、光電(diàn)功能薄膜材料開(kāi)發等。

系統特點

  • 線掃描光束,可(kě)實現大(dà)面積樣品均勻處理(lǐ)
  • 采用多(duō)級透鏡整列勻光技(jì)術(shù),光束均勻性好
  • 激光波長可(kě)選擇308nm、248nm,351nm、193nm可(kě)定制(zhì)
  • 線光束尺寸可(kě)定制(zhì) 

技(jì)術(shù)參數(shù) 

型号 ELA-308-100 ELA-248-100 ELA-248-50
激光波長 308nm 248nm 248nm
激光束尺寸 100mm×0.3mm 100mm×0.4mm 50mm×0.8mm
最大(dà)激光能量密度 450 mJ/cm2 200 mJ/cm2 200 mJ/cm2
光束均勻度 >92% >92% >92%
掃描步進精度 5μm 5μm 5μm
處理(lǐ)氣氛 N2/Air N2/Air N2/Air
重量 500Kg 500Kg 500Kg
冷卻方式 Air Air Air
外形(L×W×H) 1600mm×1600mm×1400mm 1800mm×900mm×1600mm 1800mm×900mm×1600mm

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