脈沖激光沉積系統
脈沖激光沉積 （Pulsed laser deposition, PLD），就是将激光聚焦于靶材上(shàng)一個(gè)較小(xiǎo)的面積，利用激光的高(gāo)能量密度将部分靶材料蒸發甚至電(diàn)離，使其能夠脫離靶材而向基底運動，進而在基底上(shàng)沉積，從而形成薄膜的一種方式。 在衆多(duō)的薄膜制(zhì)備方法中，脈沖激光沉積技(jì)術(shù)的應用較為(wèi)廣泛，可(kě)用來(lái)制(zhì)備金屬、半導體(tǐ)、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、矽化物、硫化物及氟化物等各種物質薄膜，甚至還(hái)用來(lái)制(zhì)備一些(xiē)難以合成的材料膜，如金剛石、立方氮化物膜等。
PLD系統推薦PLD20、PLD30、PLD20L準分子激光器(qì)，真空(kōng)腔體(tǐ)可(kě)選沈陽科儀PLD450型或LMBE450型等，此系統解決方案性價比超高(gāo)，完全國産化，滿足大(dà)部分各種材料薄膜制(zhì)備及研究。
附件：大(dà)學老師(shī)發表的研究論文（使用盛方科技(jì)PLD準分子激光器(qì)系列配置的脈沖激光沉積系統）
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序号 |
論文名稱 |
期刊 |
發表單位 |
發表時(shí)間(jiān) |
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1 |
Ferroelectric Hf0.5Zr0.5O2 thin films deposited epitaxially on (110)-oriented SrTiO3 |
Applied Physics Letters |
南京大(dà)學 |
2021 |
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2 |
Electroresistance in metal/ferroelectric/semiconductor tunnel junctions based on a Hf0.5Zr0.5O2 barrier |
Applied Physics Letters |
南京大(dà)學 |
2021 |
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3 |
Pulsed laser deposited and sulfurized Cu2ZnSnS4 thin film for efficient solar cell |
Solar Energy Materials and Solar Cells |
深圳大(dà)學 |
2021 |
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4 |
nanosecond laser-induced surface damage and its mechanism of caf2 optical window at 248 nm KrF excimer laser |
Scientific Reports |
國防科學技(jì)術(shù)大(dà)學 |
2020 |
