光纖光栅刻蝕

準分子激光器(qì)是目前用來(lái)制(zhì)作(zuò)光纖光栅最為(wèi)适宜的光源。它可(kě)提供193nm 和(hé) 244nm 兩種有(yǒu)效的寫入波長并有(yǒu)很(hěn)高(gāo)的單脈沖能量，可(kě)在光敏性較弱的光纖上(shàng)寫人(rén)光栅并實現光纖光栅在線制(zhì)作(zuò)。目前主要的成栅方法有(yǒu)：準分子激光幹涉、光纖光栅的單脈沖寫入、相位掩膜法等制(zhì)作(zuò)光栅。我司FBG系列準分子激光器(qì)完全可(kě)用于光纖光栅刻蝕中生(shēng)産光栅，其光斑分布均勻、性能穩定、性價比高(gāo)且維護方便、維護成本低(dī)及維護快捷。