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首頁産品系列準分子激光系統和(hé)設備準分子激光退火(huǒ)系統

準分子激光退火(huǒ)系統

系統概述

準分子激光退火(huǒ)系統采用準分子激光作(zuò)為(wèi)光源,經過勻光、整形後獲得(de)極均勻的高(gāo)能量密度線型激光束,可(kě)實現大(dà)面積樣品均勻掃描;
準分子激光退火(huǒ)系統輸出波長短(duǎn),光子能量大(dà),樣品吸收深度小(xiǎo),主要用于薄膜材料的退火(huǒ)或改性研究,如低(dī)溫多(duō)晶矽薄膜退火(huǒ)、光電(diàn)功能薄膜材料開(kāi)發等。

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系統特點

  • 線掃描光束,可(kě)實現大(dà)面積樣品均勻處理(lǐ)
  • 采用多(duō)級透鏡整列勻光技(jì)術(shù),光束均勻性好
  • 激光波長可(kě)選擇308nm、248nm,351nm、193nm可(kě)定制(zhì)
  • 線光束尺寸可(kě)定制(zhì) 

 

技(jì)術(shù)參數(shù) 

型号

ELA-308-100

ELA-248-100

ELA-248-50

激光波長

308nm

248nm

248nm

激光束尺寸

100mm×0.3mm

100mm×0.4mm

50mm×0.8mm

最大(dà)激光能量密度

450 mJ/cm2

200 mJ/cm2

200 mJ/cm2

光束均勻度

>92%

>92%

>92%

掃描步進精度

5μm

5μm

5μm

處理(lǐ)氣氛

N2/Air

N2/Air

N2/Air

重量

500Kg

500Kg

500Kg

冷卻方式

Air

Air

Air

外形(L×W×H)

1600mm×1600mm×1400mm

1800mm×900mm×1600mm

1800mm×900mm×1600mm

 

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