準分子激光剝蝕系統
系統概述
激光剝蝕是微區(qū)分析的重要手段，是原位微區(qū)微量元素和(hé)同位素分析的重要發展方向。LA-193準分子激光剝蝕系統具備超高(gāo)性價比，激光器(qì)完全實現國産化，軟硬件支持與電(diàn)感耦合等離子體(tǐ)質譜儀和(hé)光譜儀直接聯用。193nm準分子激光屬于深紫外波段的“冷激光”，高(gāo)能量密度的均勻平頂激光能夠剝蝕各類樣品甚至是透明(míng)物質，如：高(gāo)純石英、螢石等樣品。
系統特點
- 能量密度高(gāo)達30J/cm2，可(kě)剝蝕石英、螢石等
- 激光束能量分布均勻化，剝蝕均勻
- 标配100x100mm移動平台，可(kě)選150x150mm平台
- 獨立的視(shì)頻和(hé)激光光學控制(zhì)單元，能夠更好的查看樣品剝蝕點
- 剝蝕光斑範圍10-200μm，标配12個(gè)剝蝕光斑，光斑可(kě)定制(zhì)
- 含樣品池、載氣系統
技(jì)術(shù)參數(shù)
| 型号 | LA-193 |
| 激光波長 | 193nm |
| 激光脈寬 | ＜25ns |
| 最大(dà)重複頻率 | 20Hz |
| 剝蝕光斑大(dà)小(xiǎo) | 10-170μm |
| 最大(dà)激光能量密度 | 30J/cm2 |
| 顯微成像分辨率 | 2.5μm |
| 步進重複精度 | +/- 3 um |
| 重量 | 600kg |
| 外形(L×W×H) | 2600mm×650mm×1800mm |
